光学微粉抛光材料
光学微粉抛光粉
产品特点：
光学微粉是以氧化铈、氧化铝，氧化锆等软硬磨材料以特殊的比例配置而成的，经过高温保温处理，晶格完整，粒度可控，光学磨粉微粒的特别晶形及混合材料的适当硬度，令在切削量不受影响的情况下，又最大限度的保证到被加工物表面不会留下一般磨粉所容易造成的划痕，
物化指标:
|
型号 |
规 格 |
比重 |
化学成分 (%) |
|||||
|
Ceo2 |
A1203 |
SiO2 |
Fe2O3 |
TiO2 |
ZrO2 |
|||
|
SH-W |
#240-#400 |
3.90 |
25 |
21.5 |
10.0 |
0.5 |
5.0 |
38.0 |
|
#500-#1200 |
3.90 |
30 |
21.5 |
10.0 |
0.5 |
5.0 |
33.0 |
|
|
#1500-#10000 |
3.90 |
30 |
20.0 |
10.0 |
0.7 |
5.0 |
34.3 |
|
技术参数
|
型号 |
粒度分布 |
包装 |
||||
|
D50: 平均粒径 |
D97:um |
最大颗粒 D100(μm) |
每小袋 (kg) |
每箱(kg) |
||
|
240# |
40.0 ± 3.0 |
74.0 |
98.0 |
5 |
20 |
|
|
280# |
34.0 ± 2.5 |
66.0 |
86.0 |
5 |
20 |
|
|
320# |
28.0 ± 2.3 |
58.0 |
75.0 |
5 |
20 |
|
|
400# |
23.0 ± 2.1 |
50.0 |
63.0 |
5 |
20 |
|
|
500# |
19.0 ± 1.6 |
43.0 |
53.0 |
5 |
20 |
|
|
600# |
16.0 ± 1.3 |
37.0 |
45.0 |
5 |
20 |
|
|
700# |
13.5 ± 1.1 |
31.0 |
38.0 |
4 |
20 |
|
|
800# |
11.3 ± 0.9 |
27.0 |
32.0 |
4 |
20 |
|
|
1000# |
9.4 ± 0.8 |
23.0 |
27.0 |
4 |
10 · 20 |
|
|
1200# |
7.1 ± 0.7 |
20.0 |
23.0 |
4 |
10 · 20 |
|
|
1500# |
5.5 ± 0.5 |
17.0 |
19.0 |
4 |
20 |
|
|
2000# |
4.5 ± 0.4 |
14.0 |
15.0 |
4 |
20 |
|
|
3000# |
3.6 ± 0.4 |
11.0 |
12.0 |
3 |
20 |
|
|
4000# |
2.7 ± 0.4 |
8.0 |
10.0 |
3 |
20 |
|
|
6000# |
2.0 ± 0.4 |
5 |
8 |
3 |
20 |
|
|
8000# |
1.5± 0.4 |
4 |
7 |
3 |
20 |
|
|
10000# |
1.0± 0.4 |
3 |
5 |
3 |
20 |
|
应用领域：
SH-W光学微粉除广泛应用于各类半导体材料晶片的精磨外，也极普遍地使用于各类光学玻璃和光学晶体的透镜，棱镜，面镜，滤镜等的表面处理上。
